CMP-4S金相試樣雙盤自動(dòng)磨拋機(jī)（無極調(diào)速）

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CMP-4S型自動(dòng)磨拋機(jī)為雙盤臺(tái)式機(jī)，是中心力加壓和單點(diǎn)加壓的一體機(jī)，是依據(jù)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，采用國(guó)際先進(jìn)工藝技術(shù)制造的新一代高精度、制樣過程自動(dòng)化的研拋光設(shè)備。具備磨

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更新時(shí)間：2025-11-14

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CMP-4S型自動(dòng)磨拋機(jī)為雙盤臺(tái)式機(jī)，是中心力加壓和單點(diǎn)加壓的一體機(jī)，是依據(jù)**標(biāo)準(zhǔn)，采用**先進(jìn)工藝技術(shù)制造的新一代高精度、制樣過程自動(dòng)化的研拋光設(shè)備。具備磨拋盤旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇、磨拋盤可快速更換；多試樣夾試器和氣動(dòng)單點(diǎn)加載等功能。本機(jī)采用了先進(jìn)的微處理器控制系統(tǒng)，使得磨拋盤、磨拋頭的轉(zhuǎn)速實(shí)現(xiàn)無級(jí)可調(diào)，制樣壓力、時(shí)間設(shè)定直觀、便捷只需更換磨拋盤或者砂紙和織物即可完成磨、拋工序的操作。從而使本機(jī)展現(xiàn)了更加廣泛的應(yīng)用性。具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、安全可靠、噪音低及采用鑄鋁底座增加了磨拋的剛性等特點(diǎn)。
本機(jī)帶有水冷卻裝置，可以在研磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織并隨時(shí)將磨粒沖刷排走；再配以玻璃鋼外殼和不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)件，在外觀上更加美觀大方，并提高了防腐、防銹性能且易清潔。
適用于對(duì)金相試樣的粗磨、精磨、粗拋光至精拋光過程進(jìn)行自動(dòng)制樣。是企業(yè)、科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。

主要技術(shù)指標(biāo)：
磨拋盤直徑：φ250mm（可訂制φ230mm、φ300mm）
磨拋盤轉(zhuǎn)速：50-1000 r/min（無極調(diào)速）以及300 / 600 / 900 r/min（三級(jí)定速）
磨拋盤轉(zhuǎn)向：可調(diào)正反轉(zhuǎn)選擇
磨拋頭轉(zhuǎn)速：5-150 r/min（無極調(diào)速）
制備樣數(shù)量：6個(gè)
輸入氣源：0.4-0.7Mpa，制樣時(shí)間：0-3000 S