VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機

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產(chǎn)品簡介:VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空

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更新時間：2025-07-29

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產(chǎn)品簡介:VTC-200PV真空旋轉(zhuǎn)涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空,使樣品在*真空的狀態(tài)下進行涂膜,適用于在空氣中易氧化變質(zhì)的薄膜材料的使用。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上,該設(shè)備可儲存12組程序,每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)不同,使設(shè)備緩慢提升速度限速度,有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜,且不會過多浪費,節(jié)約材料。具有操作簡單、清理方便,體積小巧等優(yōu)點,主要應(yīng)用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。