UNIPOL-2002精密研磨拋光機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

UNIPOL-2002型精密研磨拋光機(jī)設(shè)有三個(gè)加工工位，是可進(jìn)行大尺寸樣品磨拋的落地式磨拋機(jī)，用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學(xué)材料（如

產(chǎn)品型號(hào)：UNIPOL-2002

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更新時(shí)間：2025-06-24

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UNIPOL-2002型精密研磨拋光機(jī)設(shè)有三個(gè)加工工位，是可進(jìn)行大尺寸樣品磨拋的落地式磨拋機(jī)，用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣，是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了?508mm的研磨拋光盤(pán)和三個(gè)加工工位，可用于研磨拋光≤?160mm的圓片或?qū)蔷€長(zhǎng)≤160mm的矩形平面。在研磨過(guò)程中三個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動(dòng)，同時(shí)推動(dòng)載物塊左右擺動(dòng)，載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著研磨盤(pán)公轉(zhuǎn)，使樣品做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)，使研磨后的樣品表面質(zhì)量均勻。三個(gè)擺臂自帶驅(qū)動(dòng)電機(jī)可驅(qū)動(dòng)載物盤(pán)進(jìn)行自傳。研磨拋光機(jī)配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的精密圓柱狀金屬塊，使研磨后的樣品表面也具有高的平面度，并且不會(huì)使樣品邊緣倒角，對(duì)邊緣要求高的樣品尤其適合。若配置適當(dāng)?shù)母郊℅PC系列精密磨拋控制儀），可批量生產(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品，例如直徑≤?160mm晶圓樣品的研磨與拋光。采用研磨盤(pán)加磨料的方式研磨樣品，也可以選用拋光盤(pán)貼砂紙的方式研磨樣品，砂紙或拋光墊采用磁力吸附的方式裝卡，裝卸方便。具體選用砂紙研磨還是磨料研磨可根據(jù)被研磨樣品的材質(zhì)進(jìn)行選擇。

高精度旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)。
主軸與旋轉(zhuǎn)盤(pán)高精度同軸。
主軸自動(dòng)升降，便于多尺寸磨拋；主軸可無(wú)極調(diào)速。
配有定時(shí)拋光功能，讓拋光更智能。
可選配自動(dòng)滴料器，便于磨拋更便捷。

產(chǎn)品名稱	UNIPOL-2002型精密研磨拋光機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)	UNIPOL-2002
主要參數(shù)	1.研磨盤(pán)：直徑φ508mm（20英寸）（標(biāo)配不含研磨盤(pán)，具體材質(zhì)請(qǐng)咨詢銷售） 2.載樣盤(pán)：直徑φ160mm（6英寸），厚度35mm 3.修盤(pán)環(huán)：外徑φ196mm，內(nèi)徑φ160.5mm，厚度36mm 4.擺臂支架：每120°設(shè)置1個(gè)，共3個(gè) 5.工位數(shù)量：3個(gè) 6.研磨盤(pán)轉(zhuǎn)速：轉(zhuǎn)數(shù)：10-90轉(zhuǎn)/分鐘 7.擺臂支架擺動(dòng)速度檔位：15-30檔（參考速度：5.5-13.5次/分鐘），擺臂可上翻折疊，方便研磨盤(pán)的清洗和載樣盤(pán)的更換。 8.擺臂上主動(dòng)輪轉(zhuǎn)速：30-90rpm 9.擺臂主動(dòng)輪單個(gè)電機(jī)功率：25W 10.研磨機(jī)主機(jī)電機(jī)：變頻電機(jī)：1.25kW， 220V
產(chǎn)品規(guī)格	11、產(chǎn)品規(guī)格： ·尺寸：落地式，8201060945mm ·重量：450kg